设备概述

    主要由真空炉体、炉门升降系统、加热室、真空获得系统、充气系统、水冷系统、电气控制系统、人机界面控制系统及真空控制系统等部分组成。

设备技术特点与优势
❶   设备主要用于碳化硅的沉积，主要是制备碳化硅托盘；
❷   采用立式上开门结构，高纯石墨作发热体，发热体按三区布置进行控温，可编程PID调节；
❸   采用先进的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小；
❹   全密闭沉积室，密封效果好，抗污染能力强；
❺   多通道工艺气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；
❻   多级高效尾气处理系统，能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物，环境友好；
❼   可选配新设计的防腐蚀真空机组，持续工作时间长，维修率极低；
❽   使用工艺气氛：真空/CH₄/H₂/N₂/Ar/BCI₃/C₃H₆/ZrB₂/HfB₂/TaB₂/MTS（选配）。

                                                                    设备技术参数和功能会随着产品创新优化变化，详情请联系我们。